F2 – Nachreinigung

Fluorwasserstoff entfernen

Beim Herstellen von Fluor entsteht auch Fluorwasserstoff (HF), das nicht für die Reaktion benötigt wird, aber im Versorgungsgas enthalten ist. Durch einen Reinigungsschritt kann diese „Verunreinigung“ dem Hauptgasstrom entzogen werden, sodass nur F2 dem Prozess zugeführt wird.
Diese Nachreinigungseinrichtung ist nicht als Absorber für die Abgase eines Fluorierungsprozesses geeignet.

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